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          小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD

          簡要描述:小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD是鄭州科探儀器設備有限公司生產,臺式設計、軟件自動操控、高性價比,非常適合實驗室科研使用。 通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面。軟件自動操控、工藝儲存,高性價比,非常適合實驗室科研使用。稱為熱蒸發鍍膜,熱蒸發鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發鍍膜機一般主要用于蒸發Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等。

          • 產品型號:
          • 廠商性質:生產廠家
          • 更新時間:2024-01-25
          • 訪  問  量:2380
          詳細介紹
          品牌鄭科探產地類別國產
          應用領域化工,電子

          一、技術原理:  

          (1)小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD,臺式設計、軟件自動操控、高性價比,非常適合實驗室科研使用。  

          (2)通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面,稱為熱蒸發鍍膜,熱蒸發鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發鍍膜機一般主要用于蒸發Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。以下為蒸發鍍膜設備的示意圖。  


          二、真空度越高越不易氧化越接近金屬本色:  

          ★玻璃鐘罩真空腔室,最直觀的蒸發狀態和薄膜沉積現象觀察;  

          ★復合分子泵和直聯旋片泵,大抽速準無油真空系統(分子泵抽速≥400L/S);

          ★兩組水冷式蒸發電極,可長時間穩定工作,兼容金屬材料與有機材料的蒸發源設計;

          ★專業真空蒸發電源,數顯工作電流和電壓,恒流輸出;  

          ★可定制一體化高精度刻蝕掩膜板;  

          ★襯底可選擇加熱或水冷,源基距≥300mm;  

          ★可調速旋轉靶臺使薄膜更均勻;  

          ★可沉積金屬(Au,Ag,Al,Ca,Cu,Mg,Fe,Cr,Ni等)、非金屬、化合物(MoO3,LiF等)及有機物材料,可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜;  

          ★7寸顯示器定時定點調節電流,達到控制功率效果;  

          ★具有記憶儲存功能,直接調出已儲存的數據進行鍍膜達到同樣工藝效果;  

          ★配置了靶臺擋板,可手動調節或自動調節擋板,及時遮擋樣品,保證樣品效果;


          三、技術支持&服務:  

          1.技術支持:在合同簽訂之前,我們的專業工程師會在充分了解客戶需求的前提下,為客戶做出*的選型和方案設計,使客戶充分了解并理解產品技術指標、性能用途、使用場合、安全注意事項等,以幫助客戶做出正確的選擇。

          2.安裝與培訓:在產品使用前,我們會派專業工程師為您提供現場技術支持、培訓及演示服務。  

          3.產品質保:我們對產品提供12個月的質保期,在質保期內發生設備或配件損壞由公司負責賠償或免費維修。(耗材和易損件除外)  

          4.終身維護:我們對提供的產品提供終身服務,對于超過質保期限的維修、維護僅收取材料費,免除一切人工費用。

                 image.png  

          以下是不同真空度 不同鍍膜時間鍍銅樣品圖

          637858771737832260197.png   原樣品沒有鍍膜                       637858771732996198687.png  115A 100秒 機械泵

          637858771732840196319.png115A 100秒 分子泵抽12分鐘    637858771732684194803.png  115A 120秒 分子泵抽20分鐘

          637844882350281266506.jpg

          四、小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD技術資料:

          控制方式

          7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

          加熱方式

          數字式功率調整器

          鍍膜功能

          0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

          最大功率

          1200W

          最大輸出電壓電流

          電壓≤12V  電流≤120A

          真空度

          機械泵 ≤5Pa5分鐘)   分子泵≤10^-3Pa

          擋板類型

          電控

          真空腔室

          石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm

          樣品臺

          可旋轉φ62  (最大可安裝φ50基底)

          樣品臺轉速

          8轉/分鐘

          樣品蒸發源調節距離

          70-140mm

          蒸發溫度調節

          1800

          支持蒸發坩堝類型

          鎢絲藍  帶坩堝鎢絲藍  鎢舟  碳繩  

          預留真空接口

          KF25抽氣口  KF16真空計接口  KF16放氣口 6mm卡套進氣口

          可選配擴展

          機械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa  

          數顯真空計(測量范圍大氣壓到0.1Pa

          分子泵機組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa







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